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中国电子科技集团公司第四十五研究所光刻机研发中心综合厂房(2#综合厂房)施工

   日期:2023-12-01     浏览:66    评论:0    
核心提示:项目名称:中国电子科技集团公司第四十五研究所光刻机研发中心综合厂房(2#综合厂房)施工建设单位:中国电子科技集团公司第四十
项目名称:中国电子科技集团公司第四十五研究所光刻机研发中心综合厂房(2#综合厂房)施工
建设单位:中国电子科技集团公司第四十五研究所
建设地点:北京经济技术开发区泰河三街1号X45F2地块    
建设规模:总建筑面积:26610.33㎡,其中地上建筑面积13594.33㎡,地下建筑面积:13016.00㎡;建筑高度:24.3m;最大单体建筑面积26580.33,最大单跨跨度9米,最终以规划许可文件载明的面积为准。工期要求505日历天;包括地基与基础、主体结构、建筑装饰装修、屋面工程、建筑给水排水及采暖、通风与空调、建筑电气、智能建筑、建筑节能、电梯以及室外工程等设计图纸范围内全部内容的工作。具体范围以招标文件为准。    
第一名:中铁建工集团有限公司
投标报价:159603870.83元
第二名:中国新兴建筑工程有限责任公司
投标报价:158542316.82元
第三名:北京建工集团有限责任公司
投标报价:159603870.83元
 
 
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